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  • 关于征求《磁控溅射硅靶材及邦定后硅靶材》（征求意见稿）中国标协标准意见的通知

    由中国标准化协会组织、大工(青岛)新能源材料技术研究院有限公司等单位起草的中国标协标准《磁控溅射硅靶材及邦定后硅靶材》已完成征求意见稿，现公开征求意见。请于2018年1月31日之前将《意见汇总表》反馈至中国标准化协会。 地址：北京市海淀区增光路33号标协写字楼一楼（100048） 联系人：郑燕峰，010-68487160，Email：zyf@china-cas.org 传真：010-68486206 附件1： 《磁控溅射硅靶材及邦定后硅靶材》征求意见稿.pdf 附件2： 《磁控溅射硅靶材及邦定后硅靶材》（征求意见稿）编制说明.docx 附件3： 《磁控溅射硅靶材及邦定后硅靶材》（征求意见稿）意见汇总空白表.doc

    2018-01-02 17:20:46
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  • 标准号：GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

    中文标准名称：磁控溅射用钌靶 英文标准名称：Magnetron sputtering ruthenium target 标准状态：即将实施 在线预览 中国标准分类号（CCS）H68 国际标准分类号（ICS）77.150.99 发布日期2017-09-29 实施日期 2018-04-01 主管部门：中国有色金属工业协会 归口单位：全国有色金属标准化技术委员会 发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 备注：

    2017-10-16 10:49:16
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  • 标准号：GB/T 20175-2006 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法

    中文标准名称：表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法 英文标准名称：Surface chemical analysis-Sputter depth profiling-Optimization using layered systems as reference materials 标准状态：现行 该推荐性标准采用了ISO、IEC等国际国外组织的标准，由于涉及版权保护问题，本系统暂不提供在线阅读服务。如需正式标准出版物，请联系中国标准出版社。 中国标准分类号（CCS）N33 国际标准分类号（ICS）71.040.40 发布日期2006-03-27 实施日期 2006-11-01 主管部门：国家标准化管理委员会 归口单位：全国微束分析标准化技术委员会 发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫

    2017-09-12 09:05:41
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  • 标准号：GB/T 25755-2010 真空技术 溅射离子泵 性能参数的测量

    中文标准名称：真空技术 溅射离子泵 性能参数的测量 英文标准名称：Vacuum technology - Sputter-ion pumps - Measurement of performance characteristics 标准状态：现行 在线预览 中国标准分类号（CCS）J78 国际标准分类号（ICS）23.160 发布日期2010-12-23 实施日期 2011-10-01 主管部门：中国机械工业联合会 归口单位：全国真空技术标准化技术委员会 发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 备注：2011-10-01实施

    2017-09-11 16:18:59
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  • 标准号：GB/T 29557-2013 表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量

    中文标准名称：表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量 英文标准名称：Surface chemical analysis - Depth profiling - Measurment of sputtered depth 标准状态：现行 该推荐性标准采用了ISO、IEC等国际国外组织的标准，由于涉及版权保护问题，本系统暂不提供在线阅读服务。如需正式标准出版物，请联系中国标准出版社。 中国标准分类号（CCS）G04 国际标准分类号（ICS）71.040.40 发布日期2013-07-19 实施日期 2014-03-01 主管部门：国家标准化管理委员会 归口单位：全国微束分析标准化技术委员会 发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 备注：2013年第10号公告

    2017-09-11 16:03:29
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  • 标准号：GB/T 31227-2014 原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法

    中文标准名称：原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法 英文标准名称：Test method for the surface roughness by atomic force microscope for sputtered thin films 标准状态：现行 在线预览 中国标准分类号（CCS）J04 国际标准分类号（ICS）17.040.20 发布日期2014-09-30 实施日期 2015-04-15 主管部门：中国科学院 归口单位：全国纳米技术标准化技术委员会 发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 备注：2014年第22号公告

    2017-09-11 15:55:27
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  • 标准号：GB/T 32999-2016 表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率

    中文标准名称：表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率 英文标准名称：Surface chemical analysis—Depth profiling—Measurement of sputtering rate: mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer 标准状态：即将实施 该推荐性标准采用了ISO、IEC等国际国外组织的标准，由于涉及版权保护问题，本系统暂不提供在线阅读服务。如需正式标准出版物，请联系中国标准出版社。 中国标准分类号（CCS）G04 国际标准分类号（ICS）71.040.40 发布日期2016-10-13 实施日期 2017-09-01 主管部门：国家标准化管理委员会 归口单位：全国微束分析标准化技术委员会 发布单位：中华

    2017-09-07 15:08:16
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