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关于征求《磁控溅射硅靶材及邦定后硅靶材》（征求意见稿）中国标协标准意见的通知
由中国标准化协会组织、大工(青岛)新能源材料技术研究院有限公司等单位起草的中国标协标准《磁控溅射硅靶材及邦定后硅靶材》已完成征求意见稿，现公开征求意见。请于2018年1月31日之前将《意见汇总表》反馈至中国标准化协会。 地址：北京市海淀区增光路33号标协写字楼一楼（100048） 联系人：郑燕峰，010-68487160，Email：zyf@china-cas.org 传真：010-68486206 附件1： 《磁控溅射硅靶材及邦定后硅靶材》征求意见稿.pdf 附件2： 《磁控溅射硅靶材及邦定后硅靶材》（征求意见稿）编制说明.docx 附件3： 《磁控溅射硅靶材及邦定后硅靶材》（征求意见稿）意见汇总空白表.doc
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标准号：GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶
中文标准名称：磁控溅射用钌靶 英文标准名称：Magnetron sputtering ruthenium target 标准状态：即将实施 在线预览 中国标准分类号（CCS）H68 国际标准分类号（ICS）77.150.99 发布日期2017-09-29 实施日期 2018-04-01 主管部门：中国有色金属工业协会 归口单位：全国有色金属标准化技术委员会 发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 备注：
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标准号：GB/T 12853-2001 连续波磁控管空白详细规范
中文标准名称：连续波磁控管空白详细规范 英文标准名称：Blank detail specification for continuous wave magnetrons 标准状态：现行 该推荐性标准采用了ISO、IEC等国际国外组织的标准，由于涉及版权保护问题，本系统暂不提供在线阅读服务。如需正式标准出版物，请联系中国标准出版社。 中国标准分类号（CCS）L37 国际标准分类号（ICS）31.100 发布日期2001-11-05 实施日期 2002-05-01 主管部门：工业和信息化部（电子） 归口单位：全国电真空器件标准化技术委员会 发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 备注：
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标准号：GB/T 12852-2001 磁控管总规范
中文标准名称：磁控管总规范 英文标准名称：General specification for magnetrons 标准状态：现行 该推荐性标准采用了ISO、IEC等国际国外组织的标准，由于涉及版权保护问题，本系统暂不提供在线阅读服务。如需正式标准出版物，请联系中国标准出版社。 中国标准分类号（CCS）L37 国际标准分类号（ICS）31.100 发布日期2001-11-05 实施日期 2002-05-01 主管部门：工业和信息化部（电子） 归口单位：全国电真空器件标准化技术委员会 发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 备注：
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