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标准号：GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法
中文标准名称：硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法 英文标准名称：Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction 标准状态：现行 在线预览 中国标准分类号（CCS）H26 国际标准分类号（ICS）29.040 发布日期2004-02-05 实施日期 2004-07-01 主管部门：国家标准化管理委员会 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会 发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 备注：2004-07-01实施
