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标准号：GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
中文标准名称：硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法 英文标准名称：Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy 标准状态：现行 在线预览 中国标准分类号（CCS）G04 国际标准分类号（ICS）71.040.40 发布日期2010-09-26 实施日期 2011-08-01 主管部门：国家标准化管理委员会 归口单位：全国微束分析标准化技术委员会 发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 备注：2011-08-01实施
