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标准号：GB/T 4058-2009 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
中文标准名称：硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法 英文标准名称：Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers 标准状态：现行 在线预览 中国标准分类号（CCS）H80 国际标准分类号（ICS）29.045 发布日期2009-10-30 实施日期 2010-06-01 主管部门：国家标准化管理委员会 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会 发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 备注：2010-06-01实施,代替GB/T 4058-1995
