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    标准号:GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

    作者:国家标准全文公开系统
    发布时间:2017-09-11
    来源:

    中文标准名称:硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

    英文标准名称:Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy

    标准状态:现行

    在线预览

    中国标准分类号(CCS)G04

    国际标准分类号(ICS)71.040.40

    发布日期2010-09-26

    实施日期 2011-08-01

    主管部门:国家标准化管理委员会

    归口单位:全国微束分析标准化技术委员会

    发布单位:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

    备注:2011-08-01实施

    京公网安备 11011402011481号

    京ICP备12047668号-1