标准号：GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

中文标准名称：硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

英文标准名称：Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy

标准状态：现行

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中国标准分类号（CCS）G04

国际标准分类号（ICS）71.040.40

发布日期2010-09-26

实施日期 2011-08-01

主管部门：国家标准化管理委员会

归口单位：全国微束分析标准化技术委员会

发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

备注：2011-08-01实施