标准号：GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法

中文标准名称：硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法

英文标准名称：Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction

标准状态：现行

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中国标准分类号（CCS）H26

国际标准分类号（ICS）29.040

发布日期2004-02-05

实施日期 2004-07-01

主管部门：国家标准化管理委员会

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

备注：2004-07-01实施