2017年度全国半导体材料标准化工作年会在昆明召开

2017年12月5日-7日，2017年度全国半导体材料标准化工作年会在云南省昆明市召开，来自61家单位的近90名代表参加了此次会议。本次会议由半材标委会主办，云南临沧鑫圆锗业股份有限公司协办。有色金属技术经济研究院副院长朱玉华、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司副总普世坤出席会议并讲话。

12月6日上午，会议由全国半导体材料标准化分技术委员会秘书长贺东江主持。云南临沧鑫圆锗业股份有限公司副总普世坤代表协办方欢迎了各代表的与会，介绍了公司的产业规模，他强调，公司将持续创新增强核心竞争力，立足生产高附加值高科技含量的锗高端系列产品，为中国和云南锗产业的发展作出更大的贡献。朱玉华院长在讲话中指出，各相关单位应抓住新材料发展的机遇，抓重点，拓领域，发展除硅、锗以外的新型化合物半导体材料，同时，要重视国家标准、行业标准及协会标准的立项工作，积极主动转变标准化工作思路，适应标准化改革新形势，促进标准化工作协调发展。随后，贺东江秘书长作2017年度工作报告，报告中总结了2017年标委会的标准制修订工作、标准复审工作和标准化体制改革等，并提出下一步工作重点和思路。会上还对获得“2017年度全国半导体材料标准化分技术委员会技术标准优秀奖”及“2017年度半导体材料标准化先进工作者”荣誉的单位及个人进行了表彰。最后，会议与会专家对各单位提出的2018～2019年度标准计划项目进行了认真细致的讨论和逐项论证，并对2017年度审定完成的标准项目进行了终审。

12月6日下午，会议分两组对13项标准项目进行了审定和预审，与会专家对各项目进行逐条讨论，提出修改意见形成了会议纪要。

会议圆满完成各项议程后胜利闭幕。