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    全国半导体材料标准工作会暨红外技术应用研讨会召开

    作者:中国有色金属标准质量信息网
    发布时间:2018-09-30
    来源:

    2018年9月19日~21日,全国半导体材料标准工作会暨红外技术应用研讨会在新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市召开,来自全国各地25家单位的近50名代表参加了此次会议,本次会议由新特能源股份有限公司和布鲁克(北京)科技有限公司协办。有色金属技术经济研究院院长林如海及新特能源股份有限公司总经理银波出席会议并讲话。会议由全国半导体材料标准化分技术委员会秘书长贺东江主持。

    有色金属技术经济研究院院长林如海向各位参会代表介绍了有色金属技术经济研究院的发展历程,对半导体行业尤其是硅材料的国内外形势进行了分析,肯定了半导体材料标准化工作在行业发展中所起到的积极作用。同时,林院长对本次会议协办方新特能源股份有限公司和布鲁克(北京)科技有限公司表示感谢并预祝此次会议圆满成功。

    银波代表会议协办方对林院长及各位与会代表表示热烈欢迎,简单介绍了新特能源的发展历程及业务范围,指出该公司是同行业内拥有自主知识产权最多的企业,并于2015年12月在香港成功上市。银波强调,企业的成功离不开业内各界人士的大力支持和帮助,特别是标准化工作在企业发展过程中极大地促进了技术进步,是实现优势优先发展的最佳途径。

    贺东江秘书长肯定了新特能源公司近几年在标准化工作方面取得的成绩,分析了当前国内外的市场形势,并对我国目前太阳能级多晶硅和电子级多晶硅的相关标准体系的情况进行了分析。随后,贺秘书长对本次会议的任务进行了安排,并提出了下一步的工作计划和安排。

    9月20日上午,布鲁克(北京)科技有限公司的吴丹博士做了低温红外技术在半导体材料质量控制中的应用相关的报告,并与参会代表在仪器使用方面遇到的问题进行了深入的探讨。9月20日下午,会议分两组对《硅中氯离子含量的测定 离子色谱法》等11项国家标准和协会标准进行了审定和讨论,其中国家标准《取水定额 第X部分:多晶硅生产》和《节水型企业 多晶硅行业》涉及到今后多晶硅行业准入门槛的设定和节水型企业的评价,受到与会代表的广泛关注,引发了积极的讨论。

    会议圆满完成各项议程后顺利闭幕。

    京公网安备 11011402011481号

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